Filtr Ultrafioletowy

UV NANO-X MRC

Dedykowany do aparatów FujiFilm:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI

• Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
• Kolory pozostają naturalne i wyraźne
• Filtr redukuje mgłę, która może występować na morzu lub w górach
• Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
• 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
• Filtr jest wodoodporny i odporny na zarysowania
• Pierścień wykonany z  aluminium, wyposażony we wzór trapezowy, który ułatwia montaż i demontaż filtra
• Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm
• Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną również w naszej ofercie)
• W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra

Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych

MODEL: KF01.2703 / UV MRC

Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.

Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.

Cechy filtra K&F UV NANO-X MRC:

• Wyprodukowany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
• Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć
• Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
• Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM
• Doskonały stosunek jakości do ceny

Filtr pasuje m.in do następujących aparatów FujiFilm:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100

• Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
• Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
• Filtr wykazuje właściwości wodoodporne

• Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm
• Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną osobno w naszej ofercie)

W zestawie:

• 1x filtr UV
• 1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra

Przykładowe zastosowanie filtra K&F CONCEPT NANO-X MRC

Внимание! Камеры, объективы, штативы и другие дополнительные аксессуары, показанные на фотографиях они выполняют только предварительную роль и не являются предметом продажи.

Produkt fabrycznie nowy, w oryginalnym opakowaniu.

Kod produktu (SBkod): SB9093