Поляризационный фильтр 49 мм MRC CPL K&F Concept с ультранизким отражением

6942052515795 KF012473

Откройте новое измерение фотографии с фильтром CPL (Circular Polarizing Filter) K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X. Это незаменимый элемент почти любого фотографического набора, который позволяет точно контролировать свет и создавать фотографии, полные деталей с идеально переданными цветами. Он предназначен для прямой установки на объективы диаметром 49 мм.

Фильтр Ultra-low Reflection Nano-X выполнен из высококлассного японского оптического стекла AGC, которое покрыто многослойным покрытием MRC (Multi Resistant Coating), усиленным с применением титана. Это обеспечивает защиту линзы от царапин, повышенную устойчивость к воде и жиру, эффективное сокращение бликов (≤ 0,1%) и высокую светопропускаемость на уровне 45%.

Применяемая в производстве технология делает фильтр способным устранять до 99,9% световых лучей с определённой поляризацией. На практике это позволяет регистрировать значительно больше деталей, невидимых для человеческого глаза. Его вращающаяся конструкция, состоящая из двух накрученных друг на друга колец, позволяет быстро и точно менять расположение поляризаторов, а значит, эффективно отсекать волны выбранной длины.

Монтажная рама выполнена из магниевого и алюминиевого сплава. Двойная резьба позволяет одновременно использовать дополнительные аксессуары, такие как другие фильтры или солнцезащитные козырьки. Плотная накатка облегчает использование, установку и снятие фильтра. Рама характеризуется низким профилем (5,3 мм), что позволяет сочетать фильтр с широкоугольными объективами.

Характеристики

• Многослойный поляризационный фильтр MRC CPL
• Антибликовые покрытия Nano
• Титановое покрытие
• Устранение поляризованных волн до 99,9%
• Светопропускание: ≥ 45%
• Эффективное снижение бликов
• Японское оптическое стекло AGC
• Рама из алюминиево-магниевого сплава
• Устойчивость к пятнам и жирным следам
• Легко чистится
• Двойная резьба
• Толщина: 5,3 мм
• Диаметр: 49 мм